拋光液的的特點(diǎn)、適用范圍以及運(yùn)輸保存的介紹
拋光液具有金屬雜質(zhì)沾污極少、易清洗、拋光速率高、損傷層小、平整度高等特點(diǎn)。在拋光中根據(jù)需要可以?xún)?yōu)化不同配比，拋光液均能達(dá)到最佳使用效果。拋光液該產(chǎn)品具有濃縮度高、磨料粒徑小、表面張力小、對(duì)有機(jī)物、金屬離子及顆粒容易清洗、拋光速率高（0.8～1.5μm/min）、高溫不出現(xiàn)非均化蝕坑等優(yōu)點(diǎn)。
拋光液主要用于多重?cái)U(kuò)散硅片的高質(zhì)量拋光，也可用于原始鍺、石英、二氧化硅、藍(lán)寶石等材料的拋光工藝，還可用于擴(kuò)散片的拋光。
拋光液的運(yùn)輸及保存：1、運(yùn)輸與存放溫度為5℃～50℃，存放時(shí)應(yīng)避光，以避免漿料變質(zhì)。2、保質(zhì)期一年，建議半年內(nèi)使用。3、避免金屬、顆粒污染，避免強(qiáng)電解質(zhì)的接觸。
