許多產(chǎn)品在出廠前應(yīng)進(jìn)行拋光，以顯示產(chǎn)品外觀的光滑、光滑、明亮和光線效果，并提高產(chǎn)品的交付價值。因此，液體拋光蠟是加工行業(yè)應(yīng)用廣泛的數(shù)據(jù)之一。
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使用拋光蠟：海綿盤、納米毛巾、拋光機(jī)拋光輪等。
數(shù)據(jù)：拋光蠟(粗、中、細(xì))
拋光效果：解決影響漆面外觀的深層問題，如漆面氧化層、條紋、污染、褪色等。
拋光原理：由重到輕，重力研磨，輕力提光。
拋光蠟的拋光三個環(huán)節(jié)：研磨、拋光和還原。預(yù)處理后，去除油漆表面的污垢，消除嚴(yán)重的氧化和微劃痕或減少表面缺陷，使油漆表面無氧化層、條紋、污染、褪色等缺點(diǎn)。
拋光蠟的濃度值直接關(guān)系到拋光機(jī)上工件的加工效果，具體影響工件的粗糙度。拋光蠟的濃度不宜過濃或過薄，兩者之間有更佳濃度值。
只有在這個更佳范圍內(nèi)，才能保證工件表面粗糙度的良好性，如果拋光蠟太厚，會導(dǎo)致磨削時工件表面的磨削力增大，導(dǎo)致表面劃痕、不光滑、粗糙度增大。
當(dāng)拋光蠟太薄時，工件表面的磨削力太小，無法去除斑點(diǎn)和劃痕，因此，只有當(dāng)拋光蠟濃度合適時，這些問題才能完全解決。
假設(shè)拋光輪轉(zhuǎn)速為6000r/min，拋光蠟流量為0.6l/min。隨著二氧化碳濃度的增加，氮化硅陶瓷加工表面的Ra值變小，當(dāng)拋光蠟濃度超過最 佳濃度值時，Ra值增加。
原因是:當(dāng)拋光蠟濃度較低時，拋光蠟中缺乏二氧化碳顆粒，即不滿意的二氧化碳顆粒參與化學(xué)反應(yīng)，進(jìn)而使氮化硅數(shù)據(jù)的去除率較低，表面粗糙度較差；當(dāng)拋光蠟濃度增加時，化學(xué)機(jī)械拋光過程中參與化學(xué)反應(yīng)的材料供應(yīng)增加，增加了有用的機(jī)械研磨效果，增加了部分溫度和化學(xué)反應(yīng)，有效去除了產(chǎn)生的軟質(zhì)層，進(jìn)而完成了較高的去除率和加工表面質(zhì)量；當(dāng)拋光蠟濃度進(jìn)一步增加時，化學(xué)效果進(jìn)一步增強(qiáng)，但機(jī)械效果相對缺乏，導(dǎo)致表面粗糙度增加。
